高保真度五步加载纳米压印光刻的研究
严乐，刘红忠，丁玉成，卢秉恒
（西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室，710049,西安）
摘要:从理论上建立了压印光刻工艺中留膜厚度与压印力的关系，为压印预设曲线的建立提供了理论依据.基于液态光敏抗蚀剂在紫外光照射下发生光固化反应这一特性，对固化过程进行了详细的分析，建立了抗蚀剂的固化深度与紫外光曝光量之间的关系.在分析了现有压印工艺存在的问题后，提出了一个全新的压印工艺：高保真度固化压印，即包括特征转移-抗蚀剂减薄-脱模回弹力释放-保压光固化-脱模等压印过程.实验结果表明，高保真度固化压印过程与加载路线能实现复杂图形特征的复制，从而保证了压印图形的保真度，并可保证图形复制的一致性及适度留膜厚度，压印图形的分辨率可达100nm.
关键词:压印光刻；加载；抗蚀剂；高保真度
中图分类号:TH112;TH113.1文献标识码:A文章编号:0253-987X(2005)09-0933-04