压印光刻中高精度莫尔对准方法的研究
王艳蓉，崔东印，丁玉成，王莉
（西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室，710049,西安）
摘要:针对分步压印光刻工艺中多层套刻的高精度对准问题，提出一种应用斜纹结构光栅副实现
x、y、θ三自由度自动对准的方法.光栅副分为4个区域，应用光电转换器阵列检测光栅副相对移动所引起的莫尔信号变化，通过电路系统处理可同时得到在平面x、y、θ三自由度的对准信号.驱动环节采用直线电机和压电驱动器作为宏微两级驱动，其分辨率分别为0.2μm和0.1nm，在激光干涉仪全程监测下，与控制系统一起构成闭环系统实现自动对准定位.实验结果表明，在多层压印光刻工艺中，实现了压印工作台步进精度小于10nm的高精度定位要求，使整个对准系统的套刻精度小于30nm.因此，应用这种莫尔对准方法可以获得较高的对准精度，同时能够满足压印100nm特征尺寸套刻精度的要求.
关键词:压印光刻；光栅；自动对准；驱动器
中图分类号:TH112;TH113.1文献标识码:A文章编号:0253-987X(2005)07-0719-03